- 產(chǎn)品信息
- 式樣
產(chǎn)品信息
特 點
●膜厚測量范圍65nm～92μm（換算為SiO2）
●最短曝光時間1ms~※根據(jù)規(guī)格
●由于是柔性纖維光學(xué)系統(tǒng)，容易組裝到半導(dǎo)體工藝裝置中
●可從上層遠程控制
●最適合于研磨中膜厚終點檢測
基本配置
裝置組裝示意圖
測量案例
適應(yīng)過程示例
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝
等等
仕様
MCPD-9800仕様
MCPD-9800仕様
本公司的MCPD series，由于采用柔軟纖維的事，從In-Situ到內(nèi)聯(lián)各種各樣的地方和用途的編入成為可能。測量原理為分光干涉方式，在實現(xiàn)高測量再現(xiàn)性的同時，還支持多層厚度測量。通過采用獨自算法，可以高速實時監(jiān)控。...
產(chǎn)品信息
特 點
●膜厚測量范圍65nm～92μm（換算為SiO2）
●最短曝光時間1ms~※根據(jù)規(guī)格
●由于是柔性纖維光學(xué)系統(tǒng)，容易組裝到半導(dǎo)體工藝裝置中
●可從上層遠程控制
●最適合于研磨中膜厚終點檢測
基本配置
裝置組裝示意圖
測量案例
適應(yīng)過程示例
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝
等等
仕様
MCPD-9800仕様
MCPD-9800仕様
